在凈化工程中，凈化車(chē)間的溫濕度控制主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定,。在滿(mǎn)足工藝要求的條件下,，凈化車(chē)間的溫濕度控制應(yīng)考慮到人的舒適度感。從凈化過(guò)程可以知道,，隨著空氣凈化度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)凈化室溫濕度控制的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì),。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉,，但作為總的原則看，由于凈化工程中加工精度越來(lái)越精細(xì),，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小,。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小,。直徑100 um的硅片,，溫度上升1度，就引起了0.24 um線性膨脹,，所以必須有±0.1度的恒溫,，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染,，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間溫度不宜超過(guò)25度,，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多,。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露,，如果發(fā)生在精密裝置或電路中,，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹,。此外,，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉,，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí),，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿,。對(duì)于硅片生產(chǎn)最佳濕度范圍為35—45%,。從以上各種情況看，凈化車(chē)間中的溫濕度控制要求是非常嚴(yán)格的，專(zhuān)業(yè)的凈化車(chē)間溫濕度控制隊(duì)伍是凈化工程中必備的,。

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